曝氣裝置特性：科研儀器設(shè)備、實驗儀器定制、材料儀器設(shè)備
微曝氣裝置一般是指直徑在50μm以下的氣泡，其間直徑在1μm以上的細小氣泡被稱為微氣泡(micro—bubble)，直徑小于1μm且大于1 nm的超細小氣泡被進一步稱為曝氣裝置(nano—bubble)。微曝氣裝置不僅體積比一般氣泡要小許多，而且具有如下不同于一般氣泡的一些特別性質(zhì)：

①比外表積大
氣泡的體積和外表積的聯(lián)系可以通過公式表示。氣泡的體積公式為V=4π/3r3，氣泡的外表積公式為A=4πr2，兩公式兼并可得A=3V/r，即V總=n?A=3V總/r。也就是說，在總體積不變（V不變）的情況下，氣泡總的外表積與單個氣泡的直徑成反比。依據(jù)公式，10微米的氣泡與1毫米的氣泡比較較，在必定體積下前者的比外表積理論上是后者的100倍。空氣
和水的接觸面積就添加了100倍，各種反應(yīng)速度也添加了100倍。
②上升速度慢依據(jù)斯托克斯規(guī)律，氣泡在水中的上升速度與氣泡直徑的平方成正比。氣泡直徑越小則
氣泡的上升速度越慢。從氣泡上升速度與氣泡直徑的聯(lián)系圖可知，氣泡直徑1mm的氣泡在水中上升的速度為6m/min，而直徑10μm的氣泡在水中的上升速度為3mm/min，后者是前者的1/2000。假如考慮到比外表積的添加，微曝氣裝置的溶解才能比一般空氣添加20萬倍。
③本身增壓溶解水中的氣泡四周存有氣液界面，而氣液界面的存在使得氣泡會遭到水的外表張力的效果。
關(guān)于具有球形界面的氣泡，外表張力能緊縮氣泡內(nèi)的氣體，然后使更多的氣泡內(nèi)的氣體溶解到水中。
依據(jù)楊-拉普拉斯方程，?6?2P=2σ/r,?6?2P代表壓力上升的數(shù)值，σ代表外表張力，r代表氣泡半徑。直徑在0.1mm以上的氣泡所受壓力很小可以忽略，而直徑10μm的細小氣泡會受
到0.3個大氣壓的壓力，而直徑1μm的氣泡會受高達3個大氣壓的壓力。微曝氣裝置在水
中的溶解是一個氣泡逐漸縮小的進程，壓力的上升會添加氣體的溶解速度，伴跟著比外表積的添加，氣泡縮小的速度會變的越來越快，然后終究溶解到水中，理論上氣泡即將消失時的所受壓力為無限大。
④外表帶電
純水溶液是由水分子以及少數(shù)電離生成的H+和OH-組成，氣泡在水中構(gòu)成的氣液界面具有簡單接受H+和OH-的特色，而且一般陽離子比陰離子更簡單脫離氣液界面，而使界面常帶有負電荷。已經(jīng)帶上電荷的外表傾向于吸附介質(zhì)中的反離子，特別是高價的反離子，然后形成安穩(wěn)的雙電層。微氣泡的外表電荷發(fā)生的電勢差常利用ζ電位來表征，ζ電位是決議氣泡界面吸附功用的重要因素。當(dāng)微曝氣裝置在水中縮短時，電荷離子在十分狹小的氣泡界面上得到了快速濃縮富集，表現(xiàn)為ζ電位的顯著添加，到氣泡決裂前在界面處可構(gòu)成十分高的ζ電位值。

⑤發(fā)生許多自在基微氣泡決裂瞬間，因為氣液界面消失的劇烈改變，界面上集聚的高濃度離子將積儲的化
學(xué)能一會兒開釋出來，此刻可激發(fā)發(fā)生許多的羥基自在基。羥基自在基具有超高的氧化復(fù)原電位，其發(fā)生的*氧化效果可降解水中正常條件下難以氧化分化的污染物如苯酚等，完成對水質(zhì)的凈化效果。